Москва 8 (495) 215-13-21 
8 (495) 660-39-73
Бесплатный звонок:8 (800) 555-31-42
image description

СПИСОК ТОВАРОВ ДЛЯ ЗАКАЗА

Товаров: 0

0 руб.

Каталог продукции

Каталог

Микроскоп NIKON Eclipse LV150

Микроскоп NIKON Eclipse LV150
Производитель: Nikon Metrology
Страна изготовления: Япония
Добавить к заказу
Выбор из двух моделей
Eclipse LV150 является стандартной моделью линейки, а модель Eclipse LV150A оснащена моторизованным револьвером объективов. Модель LV150 снабжена защитой от статического электричества, что делает ее подходящей для работы с магнитными головками, в то время как благодаря универсальному моторизованному револьверу объективов и специальному размещению элементов управления модель LV150A идеально подходит для производства полупроводников.

Эргономичный дизайн
Все элементы управления расположены на передней части микроскопа для минимизации движения рук, а уровень окуляров находится на оптимальном для глаз уровне, чтобы обеспечить комфортную работу. Механизм рефокусировки предотвращает повреждение объектива при касании образца. В стандартный комплект модели L150A входит фиксированный моторизованный пятиместный револьвер объективов. Благодаря встроенному программному обеспечению револьвер останавливается точно в положении каждого объектива. Элементы управления револьвера расположены под предметным столиком в целях предотвращения загрязнений, так как теперь нет необходимости касаться руками области столика.

Наклоняемый тринокулярный тубус
Наклоняемый тринокулярный тубус (прямое изображение) обеспечивает комфортное наблюдение для всех пользователей, независимо от их анатомических особенностей и расположения. Он имеет распределение светового потока 100:0/20:80 для одновременного использования с монитором или системой Digital Camera System. Также возможна поставка с ненаклоняемым тринокулярным и бинокулярным тубусом.    

Моторизованные или ручные револьверы объективов
Усовершенствованный универсальный моторизированный револьвер объективов встроен в штатив микроскопа. Ручные револьверы объективов имеются в наличии для универсальных задач, задач светлого поля или светлого/темного поля.    

Механизм ступенчатой системы возрастания по высоте
Для работы с более «толстыми» образцами существует возможность добавить к штативу микроскопа механизм ступенчатой системы возрастания по высоте на 35 мм, благодаря чему можно исследовать образцы толщиной до 82 мм.    

Базовый блок для проходящего света
Для диаскопического освещения имеется возможность использования дополнительного базового блока LV DIA, подходящего для применения в сфере деятельности изготовителей комплектного оборудования (OEM - Original Equipment Manufacturers). Подсоединение к источнику питания осуществляется через трансформатор UN2.    

Универсальные эпископические осветители для отраженного света
На выбор в наличии имеются осветители для светлого поля, темного поля, простой поляризации, ДИК и комплексного освещения, требующие эпифлуоресцентного УФ-возбуждения или УФ-поляризации. Освещение осуществляется с помощью лампового блока 12 В/50 Вт с предварительной центровкой, обладающего яркостью, аналогичной предыдущему ламповому блоку 12 В/100 Вт или превосходящей ее.    

Оптика серий CFI LU Plan Fluor и Plan Fluor BD
Кроме длинных рабочих расстояний и высоких числовых апертур, свойственных оптике CFI60 от Nikon, в новых объективах серии CFI LU Plan Fluor была усовершенствована скорость передачи в УФ-диапазоне. Объективы серии CFI LU Plan Fluor BD обладают как улучшенной скоростью передачи в УФ-диапазоне, так и возможностью использования при наблюдениях по методу светлого/темного поля.    

Оптика серии CFI L Plan EPI CR    
Кроме длинных рабочих расстояний и высоких числовых апертур, свойственных оптике CFI60 от Nikon, микроскопы данной серии отличаются тем, что при использовании объективов 20х и 50х можно осуществлять коррекцию покровного стекла от 0 мм до 1,2 мм, а при использовании объектива 100х – от 0 мм до 0,7 мм или от 0,6 мм до 1,3 мм.    

Модульная конструкция    
Модульная конструкция микроскопа обеспечивает возможность конструирования микроскопа согласно индивидуальным требованиям благодаря наличию большого выбора предметных столиков различных размеров (включая столики, отличные от Nikon), систем эпископического освещения, включая светлое/темное поле и флуоресценцию, оптических характеристик, включая улучшенную скорость передачи в УФ-диапазоне и коррекцию покровного стекла, моторизованных или немоторизованных револьверов объективов, а также бинокулярных, тринокулярных и наклоняемых тринокулярных тубусов.    

Широкий выбор предметных столиков    
Столики 3 х 2 и 6 х 4 поставляются со стеклянной пластиной, что делает их подходящими как для эпископического, так и для диаскопического освещения. Столик 3 х 2 также может быть оснащен пластиной защиты от электростатических разрядов или держателем предметных стекол. Для работы с более крупными образцами в наличии имеется столик 6 х 6. Столик 6 х 6 также может быть оснащен защиты от электростатических разрядов или держателем пластин-заготовок для изготовления микросхем.



MEGA-NK.RU Оборудование для неразрушающего контроля МЕГА ИНЖИНИРИНГ МЕГА НК

Copyright © 2011 Все права защищены

 

Наши телефоны: 8 (495) 215-13-21
8 (800) 555-31-42

все контакты карта сайта
Работает на: Amiro CMS